信息來源: 時間:2021-2-24
全增強型NMOS運放如圖3.10-9所示。
構成輸入級差分電路,其增益約5倍;
和
為電平位移電路,增益約0.95倍;
組成串級放大和輸出級驅動電路,采用串級放大是為了減少M20柵極的密勒電容,以改善頻率響應,這一級的增益等于
,約為11倍;
構成輸出級電路,其形式如圖3.10-6所示,增益為6.6倍。綜上所述,該電路的總增益約345倍。M1、M2、M3和M15、M16,M17構成偏置電路,決定了電路的工作點。M13和
組成相位補償電路。
要使電路正常工作,該電路的所有MOS器件均處在飽和區。為實現這一要求,各管子的寬長比應有如下關系(為簡單起見,管子的寬長比定為S)。
我們使,這樣
,因此I1/2電流流過
,關系為
,因此
,有
,選取
得以及
,因此
工作在飽和區。
在M15、M16、M17分壓電路里,選取S16、S17,并使,要使
工作在飽和區,應有
。工作點VA、VB和VC如圖中所示,設計時,流過M1、M2和M3的電流為100微安,VA=8伏,VB=-11.5伏,Vc=-7伏,取MOS管的閾值電壓VT=2伏。圖中各MOS器件的寬長比如表3.10-1所示。
該電路的主要參數如表3.10-2所示。
圖3.10-10是一個用于LSIMOS模擬集成電路中的NMOS運放,它采用標準的n溝硅柵增強-耗盡MOS工藝制成。該運放提供了較好的性能。NMOS運放典型電路圖。開環直流增益約為1000,共模抑制比約為75分貝。對于1千歐負載,輸出電壓有效值可達1伏(士5伏電源電壓時)。當電容負載為20皮法,輸出幅度為1伏時,1%精度的建立時間約2微秒。
該地路由輸入級、電平位移級(包括雙端-單端轉換電路)、第二增益級及輸出級組成。這里的輸出級是具有單位電壓增益的負反饋電路。因此從增益角度來說,該電路是由兩級增益級組成。這與通用型運放的情況相同。
電路的輸入級及電平位移級結構圖如圖310-11所示。它們構成一個跨導放大器。輸入級由M1~M7組成。M3、M4是耗盡型有源負載。NMOS運放典型電路圖。M6、M7為輸入級的偏置電路。M5、M6是電流源,它們的電流決定于M7、M8構成的偏置電路。該運放的輸入級采用雙端輸出形式,以他電路有較好的共模抑制性能。
此運放的電平位移級是低阻抗型的,其具體電路由圖3.10-10中構成。為使于討論,將這部分電路畫于圖3.10-12。圖中M11、M13及M12、M14分別組成并聯反饋的等
效二極管,M13、M14的漏源電壓就是電平位移所需要的電壓,即圖3.10-11中的電池電壓V,它們源極所接的M17、M18構成電流源電路,以實現第一級輸出電流的雙端一單端的轉換。M15、M16對管分別提供兩個等效二極管的電流,此電流相當于圖3.10-5a中的電流源Io,而M15,M16的電流是由M20偏置的。M19、M20的又是一個電流源電路,M19偏置M20的電流M10的電流由M10決定。M8、M9組成該級的總偏置電路。此電平位移級中的偏置電路結構復雜,其目的是使M11、M12的柵極電壓與Vo相等。NMOS運放典型電路圖。由圖3.10-12可以看到,V1、V2是輸入級差分對管M1、M2的漏極電壓。該電壓的大小直接決定了運放正向共模輸入電壓范圍。為了增加此共模電壓范圍,電壓V1、V2應盡量接近正電源電壓。在這里,M3、M4進入線性區的條件是
在圖3.10-10中(參看圖3.10-11和圖3.10-12),整個偏置電路的目的就是使
以保證電路有最大的共模輸入電壓范圍,是用M8、M9來偏置的。由圖可知:
,現在的問題是如何使V1、V2與V3相等。
在圖3.10-10電路設計時,使M10、M11、M12溝道的寬長比相等。而電流源M19、M20的寬長比設計值滿足:
因此,M20的電流為M19(即M10)電流的兩倍。M15、M16是對管,M15(M11)中的電流以及M10(M12)中的電流就與M10中電流相等。結果必然使M10、M11、M12有相同的VGS,M10、M11,M12溝道的寬長比都設計得小于1,而的寬長比都很大,所以,前者的柵源電壓比后者要大得多。因此,可近似認為M15、M16的漏極電壓與
的漏極電壓相等。由此可見,V1、V2與V0近似相等。上述等效二極管的交流等效電阻
在此處約為6千歐。
運放的第二增益級由M21~M24組成,這里用注入電流方法提高放大管M21的跨導,從而提高第二級的增益。其電路形式與圖3.10-1b中完全一樣。電路中電容C為頻率補償用。
運放的輸出級由組成,其電路形式與圖3.10-8相同。它工作在甲乙類狀態,其輸出級輸出電阻約為800歐姆。
該運放的頻率特性主要取決于第二級。密勒補償電容C確定了電路的主極點。它的設計值為8皮法。為了減小電容C的前饋影響,提高第二級的級增益,在電路設計中要盡最增加M21的跨導。在電路中,利用和電容C產生的零點來補償該電路的第二極點,以改善整個電路高頻時的幅頻特性和相位余量。
此運放電路各器件尺寸設計值及電流值見表3.10-3。其中,M3、M4溝道的寬度與長度值均較大,這是從減小運放的1/f噪聲來考慮的。表中E為增強型器件,D為耗盡型器件。電路制作采用NMOS硅柵工藝,電路主要參數值見表3.10-4。
前面討論的NMOS運放,其電壓增益較低,近年來,已研制出高性能、高增益NMOS運放,電壓增益達40000倍。
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